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          芯片制造行業用超純水

          產品介紹
          芯片制造行業用超純水設備全套系統自動化程度高,系統穩定性高。芯片制造用超純水設備擁有完美的設計、卓越的品質、精良的施工質量,有效的去除水中的雜質、重金屬離子、細菌等有害物質,出水水質符合電子工業生產用水需求。
          工藝設計
          水進入EDI系統,主要部分流入樹脂/膜內部,而另一部分沿模板外側流動,以洗去透出膜外的離子。樹脂截留水中的溶存離子。被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動。陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外。陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外。濃縮了的離子從廢水流路中排出。無離子水從樹脂/膜內流出。
          設備特點
          1、優質零部件組裝,更加耐用。

          2、可以隨時增加膜的數量以增加處理量。

          3、自我保護系統,故障急停。

          4、復合膜擁有更高的分離率和透過率。

          5、水利用高,能產生更多的可飲用水。

          6、體積更小,使用工地面積小。

          7、淡水即可沖洗符合膜。

          8、部件更加耐用,長期無需維修。

          9、液晶顯示器用超純水設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。
          技術參數
          電導率:2-10μS/cm(25℃)
          PH值:6.5-9
          水溫度:5~35℃
          總硬度:<0.5ppm
          有機物:<0.5 ppm,TOC為零
          氧化物:≤0.05ppm
          鐵、錳:<0.01ppm
          二氧化硅:<0.05 ppm
          二氧化碳:<5ppm
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